
Полупроводниковая CDS (система распределения химических веществ) является ключевой системой подачи высокочистых химикатов в производстве микросхем, обеспечивающей стабильную подачу таких реагентов, как травильные и очищающие растворы, за счет автоматизированного управления.
Полупроводниковая CDS (система распределения химических веществ) является ключевой системой подачи высокочистых химикатов в производстве микросхем, обеспечивающей стабильную подачу таких реагентов, как травильные и очищающие растворы, за счет автоматизированного управления. Система состоит из резервуаров хранения, насосных станций, фильтрующих блоков, клапанных распределительных шкафов и централизованной системы управления. В конструкции используются коррозионностойкие материалы, гарантирующие отсутствие загрязнения химикатов. Принцип работы основан на законах гидродинамики и технологиях прецизионного измерения: в резервуарах хранится исходный реагент, насосные станции обеспечивают подачу, фильтры удаляют примеси, регуляторы расхода контролируют точность дозирования, а клапанные распределительные шкафы позволяют осуществлять разветвленную подачу по нескольким магистралям. В итоге, по трубопроводной системе реагенты с высокой точностью доставляются к технологическим узлам, таким как фотолитография и очистка. Системы CDS широко применяются в таких областях, как производство пластин, сборка и тестирование, особенно в критически важных процессах влажного травления и химико-механической планаризации, где они обеспечивают круглосуточную непрерывную работу, гарантируя соответствие температуры, концентрации и пропорций компонентов реагентов строгим технологическим требованиям. Данная система значительно повышает эффективность производства и процент выхода годной продукции, являясь важнейшим компонентом, обеспечивающим стабильную и непрерывную работу полупроводникового производства.
Ее ключевые преимущества проявляются в четырех аспектах: во-первых, технология замкнутого контроля всего процесса позволяет в режиме реального времени отслеживать и корректировать параметры давления, расхода и температуры в трубопроводах, обеспечивая точность дозирования химикатов в пределах ±0,5%; во-вторых, модульная конструкция поддерживает быстрое расширение: одна система может быть масштабирована до 32 независимых магистралей, удовлетворяя потребности производства на 300-мм пластинах; в-третьих, интеллектуальная диагностическая система, интегрирующая более 200 моделей прогнозирования отказов, способна за 48 часов предсказать потенциальные риски, такие как износ насосов или засорение фильтров; в-четвертых, универсальность конструкции обеспечивает совместимость с более чем 200 типами специальных полупроводниковых химикатов, включая сильнокоррозионные реагенты, такие как HF и HNO₃, охватывая производственные сценарии для пластин всех поколений от 150 до 300 мм.